Zinc-O Mask Formula 201

Histomer
5200,00
р.
Смягчающая и регенерирующая маска на основе стволовых клеток растений и оксида цинка моментально снимает покраснения и чувство дискомфорта, восстанавливает баланс жирной кожи или кожи, склонной к акне. Снимает жирный блеск и прекрасно смягчает кожу.

Активные ингредиенты: оксид цинка, витамин Е, стволовые клетки сирени, экстракт серени, фитостеролы, масла кунжута и арганы, лецитин, бисаболол.

Назначение против: Акне, постакне, Черные точки, Расширенные поры, Жирный блеск.

Применение: после очищения и тонизации кожи лица, шеи и декольте нанести обильный слой маски. Через 20 минут удалить остатки влажными спонжами.

Продукт: Маска

lwh: 210x75x50 mm

Weight: 250 g

Click to order
Total: